レジストの役割

公開日時:

2021-11-09

フォトレジストは光増感化学作用 (あるいは電子エネルギーに敏感) を持つ高分子ポリマー材料で、紫外線露光や電子ビーム照射パターンを転写する媒体である。レジストの英語名はresistで、レジスト、光抵抗などに翻訳されている。レジストの役割は、レジスト層として基板表面を保護することである。レジストはイメージ的な言い方にすぎない。レジストは外観からゼリー状の液体を呈しているからだ。

レジストは通常、フィルムの形で基材の表面を均一に覆っている。紫外光や電子ビームが照射されると、フォトレジスト材料自体の特性が変化し、現像液が現像されると、露出したネガティブなフォトレジストや露出していないフォトレジストが基板表面に残りこれにより、設計したマイクロナノ構造をレジストに移し、その後のエッチング、堆積などのプロセスは、このパターンをレジストの下の基板にさらに転写し、最後に糊除去剤を使用して