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キシレン (DMB): 無色透明液体、キシレンまたはキシレン芳香族炭化水素混合物。半導体分野では、油剤やレジスト溶剤を洗浄することが多い。

トリアセテート (GTA): 無色油状液体、トリアセテートは広く使用されている溶剤の一つで、半導体業界では耐食性材料の添加剤に使用されている。

P-クロロスチレン (PCST):PCSTはKrFリソグラフィ樹脂の原料の一つとして使用され、ポリスチレンなどのポリマーに重合することができ、これらのポリマーはリソグラフィ樹脂などに広く応用されている

P-ヒドロキシスチレン (pHS):pHSはKrFリソグラフィ樹脂の原料の一つで、重合反応によって他のモノマーと共重合し、優れたポリマーを作ることができる。半導体などの分野でよく使われています。

無色透明液体、イソプロパノールは広く使用されている溶剤の一つで、半導体業界で配管洗浄に使われている。

乳酸エチル (L-ELとEL): 無色液体は、電子業界では、ロータリーコーティング後のエッジ除去と洗浄に使用され、リソグラフィ材料を取り付ける前のパイプラインの洗浄にも使用されています。 L-EL CAS:687-47-8(左回り) DL-EL CAS:97-64-3(まぜる)

酢酸ブチル（nBA）：無色透明の液体で、酢酸ブチルは優れた有機溶剤であり、ネガ型フォトレジスト現像後の洗浄剤としてよく使用される。

シクロヘキサノン(CYC)：無色透明の液体で、シクロヘキサノンは重要な化学原料であり、半導体産業で洗浄剤として使用され、パイプラインを洗浄する。

酢酸エチル(EtAc)：無色透明の液体で、有機溶剤としての酢酸エチルは、半導体表面の洗浄や汚染物質の除去に使用でき、半導体の脱脂や脱バインダーにも使用できます。

シクロヘキサン（CYH）：無色透明液体、シクロヘキサンはフォトレジスト溶剤、洗浄脱脂剤として使用され、MOSグレードは主にディスクリートデバイス、中・大規模集積回路に使用され、BV-Ⅲグレードは主に超大規模集積回路に使用され、電子産業において重要な役割を果たしている。

メチルメタクリレート（MMA）：無色透明の液体で、主にフォトレジストの製造に使用される。

メタノール（MeOH）：無色透明の液体で、半導体の洗浄、鉛保護膜の除去、精密印刷などの分野で広く使用されており、優れた除染性能と清浄度を持ち、半導体製品の製造精度と品質を大幅に向上させることができます。

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