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原材料国産自主供給: レジスト本土代替の重要な一環
リソグラフィ技術とは、光学化学反応の原理と化学、物理エッチング方法を利用して、図形を媒体層に伝達し、有効な図形窓や機能図形を形成する技術である光電情報産業チェーンの中核的な一環の一つである。大規模集積回路の製造過程で、リソグラフィとエッチング技術は微細な回路パターン加工の最も重要なプロセスであり、チップの最小特徴寸法を決定している。 レジストはリソグラフィ技術の中で最も核心的な消耗品で、その性能はリソグラフィの品質を決定している。レジストはマイクロエレクトロニクス分野の微細グラフィック加工の中核的な上流材料であり、ファインケミカル技術の障壁が最も高い材料でもある。レジストがある産業チェーンのカバー範囲は非常に広く、上流の基礎化学工業材料業界、精密化学品業界から中流レジストまで製造し、下流のPCB、パネル、半導体産業、電子などの応用端末に至る。 現在、全世界のレジスト供給が高度に集中しており、海外のトップはすでにハイエンドプロセスの量産を実現しています。国産代替が続いています。 わが国の半導体レジストの上流の核心原材料は依然として海外メーカーに独占されており、国産率が低く、国内のレジスト生産コストとサプライチェーンリスクが増加しているため、原材料の国産自主供給はレジスト本土代替の重要な環節である。
10
2022
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01
マイクロコア新材料は数千万元の投資を得た
AIエクスプレスを経て、毅達資本公衆号によると、最近、毅達資本は寧波マイクロコア新材料科学技術有限公司への数千万元の投資を完成した。マイクロコア新材は2018年に設立され、KrF以上のレジスト用モノマーと樹脂の研究開発生産企業である。会社は電子級単体とハイエンド半導体樹脂の一括供給能力を持っており、現在、日韓客先の認可を得ている。
12
2021
11
レジスト: 半導体国産化の重要な材料、コア企業の整理
リソグラフィ技術は集積回路製造の重要な工程であり、他のステップが正常に行われる前提条件である。フォトリソグラフィ技術はウエハ全体の製造コストの35% を占め、製造過程全体の40% ~ 60%。 レジストはグラフィック復刻加工技術の重要な材料である。レジストは「フォトレジスト」とも呼ばれ、光化学反応を利用して光情報をリソグラフィ系で回折と濾過を経て化学エネルギーに変換することができるリソグラフィ用の担体媒体である微細な図形をマスクテンプレートから処理待ちの基板に移します。
国産は歌の代わりに猛進します! レジストは、ハイライトの時を迎えることができますか?
最近、資本市場にはこのようなプレートが1ヶ月以上増えている。そうです。筆者が言っているのはレジストプレートで、指数は月に約20% 上昇し、多くのプレイヤーは波で上昇停止して投資家を温める。 レジストプレートの上げ幅 フォトリソグラフィは半導体加工の重要なプロセスとして、チップ製造時間の40-50% を占め、その総コストの30% を占め、チップの特徴寸法を直接決めたといえる。レジストはリソグラフィの重要な消耗品で、世界のウエハ製造材料市場で約6% を占め、その重要性が見られる。
レジストの役割
フォトレジストは光増感化学作用 (あるいは電子エネルギーに敏感) を持つ高分子ポリマー材料で、紫外線露光や電子ビーム照射パターンを転写する媒体である。レジストの英語名はresistで、レジスト、光抵抗などに翻訳されている。レジストの役割は、レジスト層として基板表面を保護することである。レジストはイメージ的な言い方にすぎない。レジストは外観からゼリー状の液体を呈しているからだ。
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レジストの性能指標はどのレジストの主要な技術パラメータを含むか
レジストの性能指標と技術パラメータ レジストの性能指標には、解像度、コントラスト、感度、粘性/粘度、粘着性、耐食性、表面張力、ピンホール、純度、熱プロセスなどが含まれる。
